第86章 模拟器再升级,新型防护装备实验成功!(求追读)(5/5)

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  原本想着趁着一上午的时间将光刻机技术验证图纸的核心技术拆分出来..

  没想到搞了三个多小时依旧没什么头绪,

  这方面的知识储备,顾平有,但是不多..

  太具体的东西,他也搞不清楚,毕竟在这个方向,他也没有深入,只知道一些边边角角的东西。

  在顾星的辅助之下,才将A-1型光刻机技术验证图纸的部分核心技术拆分开来..

  按照这个效率,全部整理一下,最快需要花个一星期。

  不要小瞧了光刻机这玩意,这玩意听起来不大,但是实际上占地面积不小,A-1型极紫外线光刻机占地面积就有三十五平发米,足足十几亿零件。

  这还不包括后道封装的光刻机..只是晶圆体制造光刻机。

  上游产业是设备、材料等供应,制造过程是IC设计到晶圆体制造再到封装测试...然后下线产品。

  简单的来说就是这么个流程,

  当然了,放置A-1型EUV光刻机的生产厂房要求也是极高,无尘工作室是必须的..这些就不必多少了。

  但是怎么将这些技术上交出去,一时间让他纠结不已...

  第一时间他就想到了名声比较好的华记..

  但是华记这方面还是差了许多,

  EDA之类的设计软件,倒是可以直接和华记谈合作。

  光刻机还是算了,华记是真没有这个能力和实力..

  自主设计可以,自主研发也行,自主生产..差的挺远。

  目前华夏还是只有魔都微电子在这方面还算争点气...华芯国际那个家伙就只能代工了...

 

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