第一百三十一章 光刻机技术路线(3/5)

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  阿美利肯跟这个名字重名的应该很少,不过当时林本坚没有去问胡正明。

  再后来Quora的横空出世,让林本坚确定了Newman就是周新,同时他也羡慕自己的好友能招到这么厉害的学生。

  才来阿美利肯一年时间,从成就上来说妥妥的华人之光,周新在阿美利肯都快成华人的代名词了。

  因为现在是九月,但凡是新来阿美利肯留学的燕大学生,都会被他们同学问到,他们认不认识周新。

  招到周新这样的学生是胡正明的福气,林本坚从来不认为自己能和周新产生什么交集。

  只是没想到这次他来旧金山参加光学大会,胡正明会帮周新约他一起吃个饭。

  无论他怎么想,林本坚也只能想到对方确实有学术上的问题要当面请教他。

  林本坚客气道:“Newman,正明他做的主要是在半导体元器件领域的研究,当然也包括EDA电路设计和模拟IC。

  我想你是他的学生,之前你发表的论文我也看过,实际上也是半导体元器件方向的内容,我主要做的是光学和半导体的重叠方向。

  你提出的问题,我不一定能够答得上来。”

  从学术地位和年纪上来说,林本坚要比周新更高,从社会地位上来说,周新无疑高太多。当你不知道该如何称呼对方的时候,称呼对方的英文名总没错。

  周新:“我知道你的研究方向,你之前一直在IBM工作,做紫外光的光刻研究。离开IBM自己创业,从事的也是光刻机领域的研究。

  我最近对光刻机很感兴趣,所以想和前辈聊聊。”

  林本坚的中文说得不太好,因此二人是用英文交流。

  “现在光刻机的主流光源采取的是KrF,但是前辈你一直认为ArF才是未来的发展方向。

  实际上工业界没有谁采用ArF,无论是尼康还是佳能,他们都一直在KrF上投入研发经费。

  我想知道为什么前辈你这么看好ArF。”

  ArF和KrF是光刻技术中使用到的深紫外光源,目前主流厂商采用的全部都是KrF。

  ASML和台积电合作,在林本坚的带领下,最早开始大规模往ArF方向投入,这也是后续ASML实现技术垄断的关键因素之一。

 

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