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利用类思维AI这个大杀器，帮助光研所或者沪微去快速的去提高他们光刻机的水平和能力，应该符合卷耳的思路——这样更快。
“所以，现在光电所的光刻机什么情况？”纪弘开口问道。
“单次曝光最高线宽分辨力达到22nm的线宽，双重曝光能够实现10nm级别的芯片制造。”
纪弘看着孙博，那眼神仿佛在说：“你在逗我！”
“这是真的，而且超分辨率光刻技术，是没有技术壁垒的，不涉及其他任何家的专利……”
“好了，你说‘但是’吧！”纪弘说道。
“但是……”孙博自己也笑了：“现在还只应用在科研领域。”
“为什么，不能量产？”
“量产是没有问题的，但是，超分辨率光刻机聚焦面积小，几乎是接触式光刻，而且是直写式的。缺点很致命，这你明白吧？”
纪弘很想说，我明白个嘚儿我明白，我不研究这个：“说清楚一些，具体是哪方面的问题。”
孙博这才想起，纪弘好像是土木专业，自学的编程和AI，光刻机他可能还真不太懂，于是解释道：
“做周期的线、点、光栅部件，举个简单的例子：我们就画两条线，这台光刻机是能实现单次线宽22nm的，如果图形复杂了，那就不行，做不了。”
这么一说，纪弘明白了。
芯片，尤其是现在的芯片，动不动在平方毫米级别的硅片上，刻画几百亿个晶体管场效应管什么的，甚至还是多层光刻。
图案的复杂度完全就不是一个量级的，只能光刻周期性的“点”和“线”，这差距也太大了一点儿。
“所以，王华新院士听了刘向东院士的介绍之后，才那么火急火燎的说要过来，他想看的就是你这边能不能有什么解决方案。”
孙博感叹道：“从简单到复杂，还真是你们类思维AI能干成的，这事儿说不定真能成。
“而且，你知道吗，超分辨率光刻机，光源用的是365nm，这要成了，以后换193nm，直接能抵得上EUV了就！”
纪弘笑了笑，并未绝对应承，思索着确实可行，但是具体情况的话，还需要看训练的成效。
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