第131章 十倍精度光刻(2/4)

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  这两年,一直在这个工艺上修修补补,说是等效5nm了,但是能效比跟真正的5nm相去甚远。

  而且,华为自认为在现有的硬件设备条件下,这台光刻机进步的空间已经被压榨干净了——除非EUV研发成功,否则,麒麟芯片的硬件性能想要再提升,已经非常困难了。

  所以,他们才会对卷耳智能科技的多线程大小核调度模块如此的上心——性能不够,调度来凑。

  而事实上,这个模块没有让他们失望——纸面数据直接提升了15%,实际体验的话,感知甚至更高。

  是真的让这一代麒麟,有了至少不输8+的纸面数据,实际体验直追8G2都不是问题。

  但现在,纪弘告诉他,做真正的5nm!

  海思的设计能力现在已经无人怀疑,甚至在很多人眼里,它已经是世界最强,没有之一——能在落后制程工艺下设计出现在的麒麟,哪怕是苹果也不容易做到。

  如果工艺再能提上去,那……

  光想想,于东都觉得是美的。

  ……

  “先参观一下吧。”纪弘看出于东的惊讶,话已经点到,解释什么都是多余的,摆事实在任何时候都会好过讲道理。

  俩人换好衣服鞋子手套头套,来到产线。

  “杨工,介绍一下现在的情况吧。”纪弘引这于东站在产线正在工作的光刻机屏幕之前,喊来总工程师,如此说道。

  “无限套刻测试一直在循环进行,目前,极端线宽已经做到了22nm……”

  于东听到22nm的时候,内心还一笑,这也不高嘛。

  但是随即反应过来,当即惊呼道:“多少?”

  这他么是220nm的光刻机啊,搞我玩儿呢吧,而且这玩意儿用的是i线365nm的光源啊!

  华为利用SAQP技术实现4倍精度的光刻,这其中有多困难,只有做过才知道。

  而且良率从几乎没法看到现在的渐渐提高,也经历了非常漫长的时间——说白了,这玩意是实在没办法了才去搞的。

  如果国内有EUV,何至于费这么大的劲!

  “10倍精度!22nm!”杨工程师确认道。

  “你们用的什么方法?”于东没有怀疑杨工骗他,这东西就在这儿,骗他没有任何意义,纪弘想跟他谈什么,也不差这一点筹码。

 

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