第59章 我能解决!(1/3)

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  曝光系统,这可是光刻机核心中的核心啊,曝光系统还有问题,就敢喊“明年交付”?

  “哎!”程旭叹了口气,瞬间想到了什么,也有些理解,这其中应该还有一些战略目的。

  “是光学问题,还是系统问题?”程旭接着问道。

  光学问题,就是超精密光学技术了,其中包括光源、掩膜板(台)、透镜等很多部分。

  系统问题,那就涉及超精密光机系统协同、驱动控制、信息处理等多个模块。

  “这两个问题其实可以归结为一个问题。”

  来之前,赵辉已经获得授权,拿到了所有的资料,就是为了给程旭做考察之前的介绍:

  “光学系统的精度不够,本身是硬件问题。国科精密已经做到极限了,还是满足不了28nm光刻机的需求。就现在,他们的人员还在不断的尝试攻克这一问题。

  “而我们,也在尝试,通过更智能的系统来解决这一问题,计算机辅助、物镜光路智能跟进优化等,效果也不好。”

  也正因如此,沪微对程旭十分重视,哪怕他还是只是一个学生——甚至还专门在公司内寻找到了他的同乡,赵辉来接待。

  因为他们知道,更强大的智能手段是能解决这个问题。而“言心”的一夜蜕变更是证明了程旭的实力。

  而程旭,后槽牙都快咬断了——他的目标可不是28nm光刻机,而是7nm的制程工艺啊!这下还怎么搞!

  尤其是调研了试产产线和看到了试产芯片效果的时候,程旭更是久久无言。

  一个按照28nm级别打造的设备,现在试产40nm,堪堪达标。

  试产28nm,良率,就别叫良率了吧,整片8寸晶圆,就没产出几块儿能用的芯片。

  更不用说套刻14,套刻7nm了。要知道,DUV光刻机的极限套刻精度是啊!

  当然,成本奇高,不会有真正产线这么干就是了。

  但,台积电用DUV量产了7nm的芯片,这是实打实可以做到的。

  这也是程旭敢说7nm的根源所在,但现在……

  七天,程旭整整在样机产线钻研了七天,一直摇头叹息外加不断感叹,但硬件本身不达标,又能怎么办呢?

  “怎么?有困难?”赵辉一路陪同,安慰道:

 

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